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產(chǎn)品中心/ products
德國(guó)Hellma氟化(huà)鈣(gài) Hellma公司由KarlMayer於(yú)1922年在德(dé)國(guó)創(chuàng)立(lì),初(chū)期專注(zhù)於(yú)光學玻璃部(bù)件和容器的(dí)生產(chǎn),主要應用於分光(guāng)光度計(jì),比色計等(děng)儀器(qì)。隨著(zhuó)光學(xué)精(jīng)密技(jì)術的(dí)快(kuài)速(sù)發(fā)展,公司逐步(bù)擴展產(chǎn)品綫(xiàn),涵(hán)蓋超微(wēi)量比色(sè)光學設備等領域。20世(shì)紀90年代(dài),Hellma通(tōng)過引入(rù)新材(cái)料(liào)和(hé)新技(jì)術。
產品型(xíng)號:CaF2-Rohteile
廠(chǎng)商性(xìng)質:經銷商(shāng)
更(gēng)新(xīn)時(shí)間:2026-03-18
訪 問(wèn) 量(liáng):335
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聯(lián)係電話:
德國Hellma氟(fú)化鈣
Hellma公司由(yóu)KarlMayer於(yú)1922年在(zài)德國創(chuàng)立,初(chū)期專注於光學(xué)玻璃部(bù)件和(hé)容器(qì)的生產,主(zhǔ)要應(yīng)用(yòng)於(yú)分光光度計(jì),比色(sè)計等(děng)儀(yí)器。隨著(zhuó)光(guāng)學精(jīng)密技(jì)術(shù)的(dí)快速發展(zhǎn),公(gōng)司逐(zhú)步擴(kuò)展產品綫,涵(hán)蓋(gài)超微量(liáng)比(bǐ)色光學設(shè)備等領域。20世紀90年(nián)代,Hellma通過引(yǐn)入(rù)新材料和(hé)新(xīn)技術。

產(chǎn)品體係與技術(shù)優勢
核心產品(pǐn)
比色(sè)皿(mǐn)與光學元(yuán)件(jiàn):提供6種材(cái)質,1000餘(yú)種型號的石英(yīng)和(hé)光學玻(bō)璃比(bǐ)色皿(mǐn),兼(jiān)容各類紫外,可(kě)見分光(guāng)光度計(jì)及熒光(guāng)光譜儀。
光(guāng)纖探頭:1995年研(yán)發的石(shí)英光(guāng)纖探頭(tóu)係列,支持紫(zǐ)外(wài)/可見/近(jìn)紅外分(fēn)光的(dí)在綫(xiàn)檢測,廣(guǎng)泛應(yīng)用於科研(yán),製藥,化工(gōng)及(jí)電力領域。
石(shí)英微(wēi)孔板:采(cǎi)用全石英(yīng)材質,耐高溫(wēn)(可整體滅菌),化學(xué)穩定性強,適(shì)用於臨(lín)床(chuáng)化學(xué)和(hé)藥物研(yán)究等領域(yù),其(qí)井底(dǐ)均(jūn)匀(yún)度小於光(guāng)波長,確(què)保(bǎo)防(fáng)水性和抗(kàng)腐蝕性。
氟化鈣(gài)(CaF₂)晶體(tǐ):作為(wéi)光學(xué)材(cái)料(liào),覆蓋(gài)深(shēn)紫外(130nm)至(zhì)紅外(8μm)波段(duàn),具(jù)有(yǒu)低色散(sàn),高(gāo)抗輻射(shè)性及大(dà)直徑(大440mm)特性,適用於半導體(tǐ)微光刻(kè),高功(gōng)率(shuài)激(jī)光及太空探測(cè)等領域(yù)。
技(jì)術(shù)特色(sè)
高精度製(zhì)造:比(bǐ)色(sè)皿窗口(kǒu)片平(píng)整(zhěng)度公差優(yōu)於0.001mm,光波(bō)正麵變形小於4λ(λ=546μm時約0.0011mm),保障測量可靠性(xìng)。
材料創新:氟化鈣晶(jīng)體在(zài)準分(fēn)子(zǐ)激光光(guāng)學器(qì)件(jiàn)(如(rú)193nm,248nm)中透(tòu)射率(shuài)遠超(chāo)傳統材(cái)料,壽(shòu)命延(yán)長(cháng)10倍以上。

Hellma氟(fú)化(huà)鈣(CaF₂)晶(jīng)體是(shì)一(yī)種(zhǒng)高(gāo)性(xìng)能(néng)光學材料,具有以下(xià)核心特(tè)性(xìng)與(yǔ)應(yīng)用優勢:
一,核心光(guāng)學特性
寬(kuān)波段(duàn)透射率
覆蓋深紫(zǐ)外(130nm)至紅外(wài)(8μm,部分(fēn)資(zī)料(liào)顯示(shì)可達9μm甚至10μm)波段,滿足(zú)真空紫外(VUV),深紫外(DUV),可(kě)見光及(jí)紅外(IR)等多波(bō)段(duàn)需求(qiú)。
在193nm(深紫(zǐ)外光刻)波長(cháng)下,內(nèi)透過率超過(guò)99.3%/cm,應力雙折(zhē)射小於5nm/cm,確保光刻機(jī)物(wù)鏡(jìng)係(xì)統的(dí)精(jīng)度。
低(dī)折(zhē)射(shè)率與低(dī)色散
折射(shè)率(nd)為1.43384,阿貝(bèi)數(shù)(vd)高達(dá)95.23,低色散(sàn)特(tè)性(xìng)顯著(zhù)減少光(guāng)學(xué)畸變(biàn),提升成(chéng)像(xiàng)質量(liáng),適(shì)用於天(tiān)文望遠(yuǎn)鏡,高清鏡頭等色校正光(guāng)學(xué)係(xì)統。
高激光耐(nài)久性
對(duì)157nm,193nm,248nm等(děng)準分子(zǐ)激(jī)光(guāng)波(bō)長(cháng)具(jù)有(yǒu)優異耐受性,適(shì)用於光刻激光光學(xué)器(qì)件(jiàn)和光(guāng)束傳輸(shū)係統(tǒng),延(yán)長組(zǔ)件壽(shòu)命(mìng)。
環境穩(wěn)定性
抵(dǐ)抗高能粒子輻射,適用於(yú)航空航天等惡(è)劣環境;大(dà)氣下使(shǐ)用(yòng)溫度達(dá)600℃,真(zhēn)空幹燥(zào)時(shí)可達800℃,機(jī)械(xiè)強度高(gāo)且(qiě)抗潮(cháo)解(jiě)。
德國Hellma氟(fú)化(huà)鈣(gài)

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