德國Hellma晶(jīng)體材料

德(dé)國(guó)Hellma晶體(tǐ)材料
Hellma晶(jīng)體材料(liào)核心(xīn)介紹(shào)
Hellma晶體(tǐ)材(cái)料以(yǐ)高(gāo)純度合(hé)成晶體為(wéi)核心，覆(fù)蓋(gài)紫外到紅外全(quán)波段（130nm-9μm），廣泛應(yīng)用於(yú)精密光(guāng)學(xué)，半導體(tǐ)製造，天(tiān)文(wén)觀(guān)測，激(jī)光技(jì)術及科研(yán)醫(yī)療等領(lǐng)域。其(qí)核(hé)心(xīn)優(yōu)勢(shì)包(bāo)括：

產品型號(hào)：170-700-1-40
廠商(shāng)性質：經(jīng)銷商
更(gēng)新時間：2026-03-18
訪問量(liáng)：360

立即咨詢

聯係電(diàn)話(huà)：

產品詳情(qíng)

德國Hellma晶體材料

Hellma晶體(tǐ)材料核心(xīn)介(jiè)紹(shào)

一(yī)，核(hé)心產品(pǐn)與技術優(yōu)勢

Hellma晶體(tǐ)材料(liào)以高純(chún)度(dù)合成晶(jīng)體為核(hé)心，覆(fù)蓋紫(zǐ)外到(dào)紅外全波(bō)段（130nm-9μm），廣泛應(yīng)用(yòng)於精密光(guāng)學(xué)，半(bàn)導體(tǐ)製(zhì)造，天(tiān)文(wén)觀測(cè)，激(jī)光(guāng)技(jì)術及科(kē)研(yán)醫療等領(lǐng)域。其(qí)核心(xīn)優(yōu)勢包括：

德國Hellma晶體(tǐ)材料(liào)

寬波(bō)段(duàn)透射率

覆(fù)蓋(gài)真(zhēn)空(kōng)紫外(wài)（VUV），深紫外（DUV），可見光(guāng)及(jí)紅外(wài)（IR）波段(duàn)，滿(mǎn)足多波段(duàn)協同工作的光學係統(tǒng)需求。
典(diǎn)型(xíng)材料如氟(fú)化鈣(gài)（CaF₂）在193nm深(shēn)紫(zǐ)外波段透光(guāng)率≥92%（10mm厚度(dù)），且透光率在(zài)-50℃~+200℃溫度(dù)範圍內(nèi)波(bō)動≤0.5%。

低色散與高折(zhē)射率均匀性

折(zhē)射率（nd）為1.43384，阿(ā)貝數(shù)（vd）達95.23，顯(xiǎn)著減少(shǎo)光學(xué)畸變(biàn)，提(tí)升成像精度（普通光學(xué)玻璃色(sè)散值通常低(dī)於(yú)60）。
折射率均(jūn)匀(yún)性(xìng)優(yōu)於0.5ppm，應(yīng)力(lì)雙折射(shè)≤0.5nm/cm，確(què)保光(guāng)束(shù)一(yī)致性。

出色的(dí)激光耐久(jiǔ)性(xìng)

適配(pèi)193nm，248nm等(děng)準分(fēn)子(zǐ)激(jī)光波(bō)長，可承受數億(yì)次(cì)脈衝(chōng)照射(shè)而不(bù)發生性能(néng)衰減(jiǎn)，壽(shòu)命是普(pǔ)通材料(liào)的10倍(bèi)以上。
低(dī)非綫(xiàn)性折射(shè)率(shuài)特性(xìng)，避免(miǎn)激(jī)光束失(shī)真(zhēn)，保障(zhàng)診療(liáo)精準性(xìng)。

抗輻射(shè)與(yǔ)環境(jìng)穩定性(xìng)

抵(dǐ)抗(kàng)高能(néng)粒(lì)子輻射，適用(yòng)於太空探(tàn)測(cè)等(děng)端(duān)環境(jìng)；大氣(qì)下使用(yòng)溫度(dù)達(dá)600℃，真(zhēn)空幹燥(zào)時可達(dá)800℃。
化(huà)學(xué)穩定性強，不易(yì)被(bèi)酸，鹼(jiǎn)侵蝕，機(jī)械強(qiáng)度(dù)高(gāo)且抗(kàng)潮(cháo)解(jiě)。

二，核心(xīn)產(chǎn)品係(xì)列

氟(fú)化(huà)鈣(gài)（CaF₂）晶(jīng)體(tǐ)

應用場景(jǐng)：半導(dǎo)體光刻（193nm/248nm DUV光刻機投(tóu)影透(tòu)鏡），高(gāo)功率(shuài)激光係統（如(rú)355nm/532nm納(nà)秒激(jī)光(guāng)），天文(wén)觀測(cè)（高(gāo)分(fēn)辨(biàn)率空間相機光學(xué)元件），科研(yán)醫(yī)療（激光(guāng)器核心(xīn)部(bù)件(jiàn)）。
技術亮點：大尺寸單晶直(zhí)徑可達440mm，支持定製切(qiē)割，研磨(mó)，拋光(guāng)等表(biǎo)麵(miàn)處理，滿足(zú)不(bù)同設備(bèi)集成需(xū)求。

氟化(huà)鎂（MgF₂）晶(jīng)體(tǐ)

應用(yòng)場景(jǐng)：紫外(wài)光學(xué)係統（DUV光刻光(guāng)學窗口），激光光學元(yuán)件（高(gāo)能激光(guāng)係統透(tòu)鏡），紅外光(guāng)學(xué)及多(duō)波(bō)段(duàn)係統（中(zhōng)紅外光學(xué)窗口）。
技術亮點(diǎn)：寬光(guāng)譜透(tòu)射（115nm-7μm），大直(zhí)徑(jìng)達150mm（定製可達200mm），熱導率高達32W/mK，適(shì)用於高功(gōng)率(shuài)激(jī)光場(cháng)景。

其他(tā)晶體(tǐ)材(cái)料

氟化(huà)鋇（BaF₂）：紅外(wài)窗(chuāng)口和紫(zǐ)外(wài)窗口(kǒu)材料(liào)，擴(kuò)展紅外(wài)範圍至(zhì)12μm，適(shì)用於集成VIS通道(dào)的(dí)熱成像(xiàng)和夜視係(xì)統(tǒng)。
三溴化鈰(shì)（CeBr₃）：高分辨率閃爍晶(jīng)體，用於高(gāo)能物理(lǐ)，核(hé)醫學及(jí)安(ān)全(quán)檢(jiǎn)查領(lǐng)域(yù)，發射光譜峰值在(zài)370nm。

三，應用(yòng)領域(yù)與典型案例(lì)

半(bàn)導體製(zhì)造

作為(wéi)248nm與193nm微光刻技(jì)術中照明和投影光(guāng)學(xué)的(dí)行業標(biāo)準(zhǔn)材料(liào)，直(zhí)接(jiē)支(zhī)撐45nm以下芯片(piàn)製(zhì)程精(jīng)度。台積(jī)電，三(sān)星(xīng)等芯(xīn)片製造(zào)商在(zài)7nm及以下(xià)製(zhì)程光刻機(jī)中采(cǎi)用Hellma CaF₂晶體製作高精(jīng)度透鏡和光(guāng)束傳輸組件(jiàn)。

天文(wén)與(yǔ)航(háng)天

用於歐洲南(nán)方天文(wén)台中小(xiǎo)口(kǒu)徑天文望(wàng)遠鏡(jìng)的光譜(pǔ)分析(xī)模塊，借(jiè)助其(qí)130nm-8μm寬(kuān)波段透光(guāng)性(xìng)，精準捕(bǔ)捉(zhuō)天體發(fā)出的(dí)紫(zǐ)外到紅外波(bō)段信號。
在近(jìn)地(dì)軌道衛(wèi)星(xīng)的遙感成(chéng)像係統中，Hellma CaF₂晶體窗口耐受太空高(gāo)能粒(lì)子輻(fú)射，保(bǎo)證(zhèng)衛(wèi)星長(cháng)期在軌(guǐ)運(yùn)行時(shí)成像穩定(dìng)性(xìng)。

科研與醫(yī)療(liáo)

在真(zhēn)空紫外(wài)光(guāng)譜分析實(shí)驗(yàn)中，Hellma CaF₂晶(jīng)體(tǐ)窗口讓130nm波(bō)段(duàn)的(dí)紫外(wài)光高效(xiào)穿(chuān)透(tòu)，助力研(yán)究材料的(dí)真空(kōng)紫外(wài)光譜特(tè)性(xìng)。
皮膚(fū)科193nm準分(fēn)子(zǐ)激(jī)光(guāng)祛斑儀，眼科角膜(mó)屈(qū)光矯正(zhèng)激光設(shè)備中，該晶體作(zuò)為(wéi)激光(guāng)傳輸窗口和聚焦(jiāo)透(tòu)鏡，確保(bǎo)診療精準(zhǔn)性並減少對周(zhōu)圍(wéi)組織的損(sǔn)傷。

工(gōng)業真空(kōng)技(jì)術

在半導體(tǐ)行業等離(lí)子(zǐ)體(tǐ)刻(kè)蝕(shí)設(shè)備(bèi)，工業高壓壓縮(suō)機室(shì)中(zhōng)，Hellma CaF₂晶(jīng)體常(cháng)被加(jiā)工(gōng)為(wéi)真空(kōng)視窗，耐(nài)受(shòu)真空環(huán)境下的壓力差和(hé)溫(wēn)度(dù)變(biàn)化，同時(shí)透過(guò)特定波(bō)段的監(jiān)測(cè)光綫(xiàn)。
德(dé)國Hellma晶體(tǐ)材料

在綫(xiàn)咨(zī)詢(xún)